SK하이닉스 첫 女연구위원 "선행 연구로 낸드 업턴 원년 만들것"

▲오해순 SK하이닉스 N-S 커미티 연구위원 부사장.

[에너지경제신문 정희순 기자] SK하이닉스의 첫 여성 연구위원인 오해순 부사장이 올해 낸드플래시 반도체의 상승 국면을 이끌겠다는 포부를 밝혔다.

오 부사장은 29일 SK하이닉스 뉴스룸이 공개한 인터뷰에서 "D램은 이미 지난해 업턴(상승 국면)으로 전환했고 올해는 낸드 차례"라며 "무엇보다 수익성 제고를 위해 개발 단계에서부터 시행착오를 줄일 수 있는 연구를 이어 나갈 계획"이라고 말했다. 이어 "낸드 적층 한계를 극복할 요소 기술을 확보하며 동시에 차세대 고부가가치 제품을 적기에 개발하는 것이 올해 중요한 미션"이라고 덧붙였다.

오 부사장은 지난해 말 임원 인사에서 SK하이닉스의 첫 여성 연구위원으로 발탁됐다. SK하이닉스 연구위원은 뛰어난 기술 역량을 바탕으로 혁신 기술 연구에 집중하는 전문 임원으로, 오 부사장은 낸드플래시와 솔루션 사업 경쟁력 강화를 위해 신설된 ‘N-S 커미티(Committee)’의 연구위원으로 선임됐다.

오 부사장은 "첨단 기술이 집약된 반도체 연구는 무엇보다 기술력이 중요하다"며 "연구 문화에 다양성을 통한 혁신을 끌어낼 수 있도록 노력하겠다"고 말했다.

그는 현재 ‘어드밴스드 PI’(Advanced Process Integration) 조직을 이끌며 차세대 고부가가치 낸드 제품 개발에 힘쓰고 있다. 특히 개발부터 양산까지의 모든 과정에서 시행착오를 줄일 수 있도록 양산 성공에 초점을 맞춘 연구를 하고 있다.

앞서 2022년 개발 단계에서 미리 양산 불량을 관리하는 ODE(On Die Epm) 시스템을 낸드 최초로 도입한 바 있다.

오 부사장은 "다양한 낸드 개발 스테이지를 경험하며 단계별 미션에 대한 이해도가 높아졌고 더 넓은 시야를 가질 수 있게 됐다"며 "올해는 낸드와 솔루션이 N-S 커미티 조직 안에서 다양한 협업을 진행할 예정"이라고 설명했다.

그는 "기술은 계속해서 발전하고, 극복해야 하는 한계 또한 계속해서 높아지게 마련이지만 기술 난도가 높다 해서 좌절할 필요는 없다"며 "솔루션 사업부와 뜻을 모아 적극적으로 소통하고 협력해 시너지를 만들고 이를 바탕으로 올해를 낸드 사업 도약의 원년으로 만들겠다"고 말했다.


hsjung@ekn.kr