법인 영업기밀 유출땐 벌금형 '최대 3배'

▲이인실 특허청장이 28일 정부대전청사 브리핑룸에서 ‘기술탈취 방지대책’을 발표하고 있다. 사진=특허청

[에너지경제신문 김철훈 기자] 최근 중국의 삼성전자 반도체 공장 ‘통째 복제’ 시도가 국내 산업계에 파장을 일으키자 정부가 조직적인 기업 영업비밀 유출행위에 벌금형을 3배로 강화하고, 제조설비 몰수까지 할 수 있는 고강도 재발방지 대책을 내놓았다.

특허청은 28일 ‘기술탈취 방지대책’을 발표하고, 피해기업의 신속한 구제를 위한 원스톱 지원체계 구축과 기존 솜방망이 수준이던 처벌수위 강화 등을 주요내용으로 하는 4대 전략 14개 중점과제를 공개했다.

먼저, 신속한 피해구제를 위해 특허청의 행정조사와 기술경찰의 수사를 종합적으로 관리·지원하는 ‘산업재산분쟁해결종합지원센터’를 신설하고, 기존 11개월이 걸리던 아이디어 탈취의 행정조사 기간을 6개월 수준으로 대폭 단축하기로 했다.

특히, 정부는 영업비밀 유출 범죄에 대한 솜방망이 처벌 문제를 해결하기 위해 사법부와 협력해 법원의 양형기준 개정을 추진, 내년 4월까지 양형기준을 정비하기로 했다.

벌금형 양형도 강화할 예정이다. 특허청은 영업비밀 유출범죄를 저지른 개인과 그 소속 법인에게 모두 벌금형을 부과하는 양벌규정과 함께 법인에는 개인의 3배까지 벌금형을 부과할 수 있도록 형량에 가중치를 높이기로 했다고 설명했다.

이는 지난해 영업비밀 해외유출 형량이 평균 14.9개월로, 법으로 정해진 최대 징역 15년에 비해 크게 낮았고, 그마저도 75.3%가 집행유예를 받는 등 솜방망이 처벌이라는 비판을 수용해 적극 개선하겠다는 의지로 풀이됐다.

기술탈취 방지대책 주요 내용
4대 전략	세부 내용
원스톱 분쟁해결체계	-산업재산분쟁해결종합지원센터 신설  -아이디어 탈취 행정조사 기간 단축(11개월→6개월)  -아이디어 탈취에 대한 행정조사 강제력 강화
솜방망이 처벌 해결	-2023년 4월까지 영업비밀 유출범죄 양형기준 정비  -한국형 증거 조사·수집 제도(한국형 디스커버리 제도) 도입  -법인의 영업비밀 유출행위 벌금형 자연인의 3배로 강화
보호 사각지대 해소	-아이디어 원본증명 제도 도입  -거래교섭 단계부터 비밀유지 계약 체결 의무화 검토
보호 지원 및 인식 제고	-피해기업에게 분쟁 대응자금 대출 확대  -지식재산의 인식 제고 노력 강화
자료: 특허청

정부는 피해기업이 손해를 제대로 배상받기 위해서는 피해 입증과 손해액 산정에 필요한 증거수집이 핵심인 만큼 법관이 지정한 전문가가 직접 현장에서 조사하도록 하는 ‘한국형 증거 조사·수집 제도(한국형 디스커버리 제도)’를 도입하기로 했다.

또한, 계약 체결 이전인 거래교섭 단계에서의 아이디어 탈취 등 보호의 사각지대를 해소하고, 특허취득 등 지식재산의 인식 제고에도 노력하기로 했다.

특허청은 이번 기술탈취 방지대책이 최근 중국이 삼성전자 전직 임원 영입을 통해 삼성 반도체 공장을 통째로 복제하려 시도한 사실이 드러난 문제의 심각성을 받아들인 후속조치이자, 국가 핵심기술을 외국에 넘기는 행위를 차단하기 위한 조치임을 강조했다.

아울러 최근 국내 L 대기업의 계열사가 국내 스타트업의 신기술 베끼기로 비판 여론이 점증하는 가운데 나온 정부 대책이라는 점에서 대기업의 중소·벤처기업 아이디어·기술 탈취를 근절하기 위한 이중 포석도 깔고 있다.

이인실 특허청장은 이날 발표에서 "앞으로 1400여명의 특허 심사·심판관의 전문성을 바탕으로 기술심판 역할을 더욱 강화해 기술탈취 분쟁이 공정하고 신속하게 해결될 수 있도록 노력하겠다"고 말했다.

kch0054@ekn.kr