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김종환

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차세대반도체 장비 EUV 도입규제 확 푼다

에너지경제신문   | 입력 2022.09.12 12:22

산업부, 고압가스 안전혁신과제 선정...반도체 초강대국 달성 전략

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▲EUV(Extreme Ultra Violet) 반도체 장비

[에너지경제신문 김종환 기자] 산업통상자원부가 반도체 장비 도입을 허용하고 반도체 공장 증설을 용이하도록 가스안전분야에서 규제를 개선한다.

산업부는 반도체 초강대국 달성 전략의 일환으로 반도체산업에 사용되는 고압가스에 대한 안전혁신과제 11건을 선정했다고 12일 밝혔다.

이 중 안전성이 확보되면서도 기업 활동을 촉진할 수 있는 고압가스 관련 반도체 생산장비 및 저장설비 등에 대한 7개 과제를 전문가 검토 등을 거쳐 신속히 개선해 나갈 계획이다.

아울러 나머지 4개 과제에 대해서도 관련단체·업계와 간담회, 현장방문 및 전문가 검토 등을 통해 안전성을 확인하고 타 법령과의 연계 가능성 등을 고려해 개선방안을 모색할 예정이다.

산업부는 차세대 EUV 장비의 국내도입시 걸림돌을 제거해 첨단제조설비를 선점함으로써 글로벌 경쟁력을 확보할 방침이다.

이를 위해 차세대 EUV장비 국내도입 허용기준을 개선하기로 했다.

EUV장비는 ASML사가 생산하는 장비로 극자외선을 이용해 반도체 회로를 그려주는 노광장비다. 차세대 EUV장비는 고압가스배관 재질을 슈퍼듀플렉스 소재를 사용하여 장비 효율을 높이고 있다.

현재 신소재재질의 배관(슈퍼듀플렉스강)을 사용한 차세대 EUV장비가 개발완료 예정이나 신소재 배관에 대한 고압가스법령內 사용규정이 없어 국내 도입이 불가한 상황이었다.

차세대 첨단장비 선점을 위해 슈퍼듀플렉스강 등 미국기계학회(ASME)에서 인정받은 재료의 배관도 고압가스 배관사용이 가능하도록 안전성을 검토 후 가스상세기준을 개정해 국내도입이 가능하도록 할 예정이다.

또 반도체 공장의 증설을 용이하도록 함으로써 반도체공장 내 부지의 활용도를 제고할 계획이다.

이를 위해 방호벽 관련 다양한 설치기준을 허용하기로 했다.

그간 반도체공장은 바닥면이 얇은 경량화된 복층건물구조로 깊이 묻어야 하는 기존 방호벽 지주의 고정방법으로는 지주설치가 곤란하고 방호벽도 두꺼운 콘크리트재질만 설치가능해 공장 증설에 어려움이 있었다.

가스상세기준에서 구조기술사 등이 안전성을 확인한 경우에는 케미컬앵커 등 다양한 지주설치방법을 허용하고 방호벽도 기존 방호벽의 재질과 동등한 안전수준이면 강판제 등 다양한 재질의 방호벽을 허용하도록 기준을 마련해 반도체 공장의 공간 활용을 증대시킬 예정이다.

아울러 공장내부의 용기보관(저장용 실린더캐비닛)의 기준을 개선하기로 했다.

지금까지 저장용 실린더캐비닛은 공장내부에 설치 시 설치장소의 지붕을 가벼운 불연재료로만 사용해야 하므로 복층으로 공장증설時 가벼운 지붕은 상층의 바닥이 되어 하중을 견디기 어려워 동 캐비닛을 공장에 설치하기 곤란했다.

전문가 검토 등을 거쳐 저장용 실린더 캐비닛에 대한 안전성을 검증 후 지붕을 가벼운 불연재료로 사용하도록 하는 의무 규정을 면제하는 기준을 마련해 반도체공장의 복층 증설을 용이하도록 할 예정이다.

박일준 산업부 2차관은 "반도체 초강대국 달성을 촉진하고 지원하는 기폭제가 될 수 있도록 이번에 선정된 혁신규제 과제를 신속히 추진하겠다"며 "반도체산업 뿐만 아니라 에너지분야 안전과 관련된 타 산업에서도 규제혁신과제를 지속적으로 발굴하겠다"고 말했다.
axkjh@ekn.kr

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