하루가 급한 반도체 라인… 가스안전공사, EUV 장비 도입 ‘물꼬’ 텄다

▲박경국 한국가스안전공사 사장(오른쪽)과 최한종 ASML 코리아 댜표이사가 9일 반도체 산업 현장의 고압가스 안전관리 기준 합리화 및 향후 협력 방안에 대해 논의하고 있다. 사진=한국가스안전공사

한국가스안전공사는 박경국 사장이 9일 ASML 코리아 최한종 대표이사와 반도체 산업 현장의 고압가스 안전관리 기준 합리화 및 향후 협력 방안에 대해 논의했다고 밝혔다.

이번 방문은 반도체 산업의 핵심인 극자외선(EUV) 노광장비의 신속한 국내 도입을 위한 제도개선에 대해 협의하고, 향후 반도체 산업의 지속적이고 안정적인 성장을 지원하기 위한 협력 방안을 모색하기 위해 마련됐다.

네덜란드 ASML이 독점 공급하는 EUV 장비는 글로벌 반도체 패권 경쟁에서 국내 기업의 제조 경쟁력을 좌우하는 핵심 장비로 꼽힌다.

현재 국내 반도체 공정은 3나노미터(nm) 이하의 초미세 영역으로 진입함에 따라, 기존 불화아르곤(ArF) 광원으로는 회로를 세밀하게 그리는 데 한계에 봉착한 상태다. ASML이 독점 공급하는 EUV 장비는 광원의 파장이 짧아 초미세 회로를 단번에 찍어낼 수 있어 반도체의 성능 향상, 전력 효율 극대화, 그리고 생산 수율(양품 비율)도 향상할 수 있다. 특히 글로벌 반도체 패권 경쟁 속에서 국내 파운드리 및 고성능 메모리(HBM 등)의 제조 경쟁력을 좌우하는 핵심 마스터키로 평가받고 있다.

가스안전공사는 그간 EUV 장비의 국내 도입과정에서 제기됐던 현장 애로사항을 해소하고 안전관리의 실효성을 높이기 위해 검사 절차를 개선했다. 재료 및 두께에 관한 신소재 규격을 인정하는 등 관련 제도를 정비해왔다.

특히 이번 제도 개선으로 EUV 장비의 분류가 '고압가스 제조시설'에서 '고압가스 특정설비'로 변경되며 기존의 국내 장비 설치 현장 뿐 아니라 해외 제작 현장에서도 검사를 수행할 수 있게 되었다. 이에 따라 기존 1개월 이상 걸리던 장비 도입 기간이 10일 정도로 단축되는 등 장비 도입의 효율성 향상과 반도체 산업현장의 행정적·시간적 부담의 완화로 이어질 것이라 기대된다.

박경국 사장은 “안전이 지켜지는 기술적 토대 위에 과도한 규제의 합리적 개선이 필요하다"고 강조하며, “앞으로도 국민의 가스안전 확보를 최우선 가치로 삼는 동시에, 반도체 산업을 비롯한 가스산업 전반의 발전을 뒷받침하기 위해 산업계와도 지속적으로 소통해 나가겠다"고 밝혔다.

윤병효 기자 chyybh@ekn.kr