삼성전자가 중국 산시(陝西)성 시안(西安) 반도체 공장에 80억달러(약 9조5천억원) 규모의 추가 투자를 공식화했다. 시안 공장은 삼성전자의 유일한 해외 메모리 반도체 생산기지로 2공장에서는 3차원 구조로 만든 V-낸드플래시가 양산될 예정이다.
12일 업계와 현지 언론에 따르면 삼성전자 강봉용 부사장은 시안시 위원회 왕하오(王浩) 서기 등을 만나 "80억 달러 규모의 (시안 제2공장) 2단계 투자가 순조롭게 시작됐다"고 말했다.
앞서 중국 리커창(李克强) 총리는 10월 시안 반도체 공장을 찾아 이 공장에 "총 150억 달러가 투자된다"며 기존 70억 달러에 추가로 80억 달러가 투자된다고 밝힌 바 있다.
삼성전자는 지난 2017년 시안 반도체 2공장에 3년간 총 70억달러를 투자하겠다고 밝혔으며 지난해 초 착공한 2공장은 올해 말까지 완공될 예정이다.
시안 2공장에 추가로 투입되는 자금은 공장 ‘램프 업’(ramp up·공정 최적화)에 활용될 것으로 전망된다.
현지 언론 시안일보는 "제2공장 1단계 투자는 내년 3월 본격 가동될 예정이고, 2단계 투자는 오는 2021년 하반기 준공 예정"이라고 전했다.
[에너지경제신문 전지성 기자]









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